Chemical infiltration during atomic layer deposition: metalation of porphyrins as model substrates

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Revista:
Angewandte Chemie - International Edition

ISSN: 1433-7851

Año de publicación: 2009

Volumen: 48

Número: 27

Páginas: 4982-4985

Tipo: Artículo

DOI: 10.1002/ANIE.200900426 GOOGLE SCHOLAR
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