Atomic layer deposition of Al203 and Ti02 multilayers for applications as bandpass filters and antireflection coatings

  1. Szeghalmi, A.
  2. Helgert, M.
  3. Brunner, R.
  4. Heyroth, F.
  5. Gösele, U.
  6. Knez, M.
Revista:
Applied Optics

ISSN: 1539-4522,  1559-128X

Año de publicación: 2009

Volumen: 48

Número: 9

Páginas: 1727-1732

Tipo: Artículo

DOI: 10.1364/AO.48.001727 GOOGLE SCHOLAR
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