Atomic layer deposition of metal fluorides through oxide chemistry

  1. Putkonen, M.
  2. Szeghalmi, A.
  3. Pippel, E.
  4. Knez, M.
Aldizkaria:
Journal of Materials Chemistry

ISSN: 1364-5501,  0959-9428

Argitalpen urtea: 2011

Alea: 21

Zenbakia: 38

Orrialdeak: 14461-14465

Mota: Artikulua

DOI: 10.1039/C1JM11825K GOOGLE SCHOLAR

Garapen Iraunkorreko Helburuak

Datuen iturria: Scopus