The correlation between mechanical stress, thermal shift and refractive index in HfO2, Nb2O5, Ta2O5 and SiO2 layers and its relation to the layer porosity

  1. Stenzel, O.
  2. Wilbrandt, S.
  3. Kaiser, N.
  4. Vinnichenko, M.
  5. Munnik, F.
  6. Kolitsch, A.
  7. Chuvilin, A.
  8. Kaiser, U.
  9. Ebert, J.
  10. Jakobs, S.
  11. Kaless, A.
  12. Wüthrich, S.
  13. Treichel, O.
  14. Wunderlich, B.
  15. Bitzer, M.
  16. Grössl, M.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Año de publicación: 2009

Volumen: 517

Número: 21

Páginas: 6058-6068

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.TSF.2009.05.009 GOOGLE SCHOLAR