FOTOCATALIZADORES DE ÓXIDO DE GRAFENO Y SEMICONDUCTOR

    Inventores/as:
  1. Radmila Tomovska
  2. Nikolaos Politakos
  3. BARBARIN, Iranzu
  1. Universidad del País Vasco/Euskal Herriko Unibertsitatea
    info

    Universidad del País Vasco/Euskal Herriko Unibertsitatea

    Lejona, España

ES
Publicación principal:

ES2937334A1 (27-03-2023)

Otras Publicaciones:

ES2937334B2 (27-10-2023)

Solicitudes:

P202130897 (24-09-2021)

Resumen

Fotocatalizadores de óxido de grafeno y semiconductor.

La presente invención se refiere a un fotocatalizador que comprende una estructura tridimensional de óxido de grafeno reducido y nanoplaquetas de por lo menos un semiconductor, se selecciona de un grupo formado por GaN, CeO2, CdS, ZnO, MoS2, WS2, WO3 y otros materiales semiconductores que permiten la formación de nanoplaquetas por exfoliación de los mismos, integradas en la estructura tridimensional y porosa de óxido de grafeno reducido. Opcionalmente el fotocatalizador comprende nanopartículas de un polímero. Se describe asimismo su preparación y sus usos.

INVENES: P202130897
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