Investigating the lateral motion of SiGe islands by selective chemical etching

  1. Katsaros, G.
  2. Rastelli, A.
  3. Stoffel, M.
  4. Isella, G.
  5. Känel, H.v.
  6. Bittner, A.M.
  7. Tersoff, J.
  8. Denker, U.
  9. Schmidt, O.G.
  10. Costantini, G.
  11. Kern, K.
Revista:
Surface Science

ISSN: 0039-6028

Ano de publicación: 2006

Volume: 600

Número: 12

Páxinas: 2608-2613

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/J.SUSC.2006.04.027 GOOGLE SCHOLAR

Obxectivos de Desenvolvemento Sustentable