Investigating the lateral motion of SiGe islands by selective chemical etching

  1. Katsaros, G.
  2. Rastelli, A.
  3. Stoffel, M.
  4. Isella, G.
  5. Känel, H.v.
  6. Bittner, A.M.
  7. Tersoff, J.
  8. Denker, U.
  9. Schmidt, O.G.
  10. Costantini, G.
  11. Kern, K.
Revista:
Surface Science

ISSN: 0039-6028

Any de publicació: 2006

Volum: 600

Número: 12

Pàgines: 2608-2613

Tipus: Article

DOI: 10.1016/J.SUSC.2006.04.027 GOOGLE SCHOLAR

Objectius de Desenvolupament Sostenible