Atomic layer deposition of Al203 and Ti02 multilayers for applications as bandpass filters and antireflection coatings

  1. Szeghalmi, A.
  2. Helgert, M.
  3. Brunner, R.
  4. Heyroth, F.
  5. Gösele, U.
  6. Knez, M.
Revista:
Applied Optics

ISSN: 1539-4522,  1559-128X

Ano de publicación: 2009

Volume: 48

Número: 9

Páxinas: 1727-1732

Tipo: Artigo

DOI: 10.1364/AO.48.001727 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus