Atomic layer deposition of Al203 and Ti02 multilayers for applications as bandpass filters and antireflection coatings

  1. Szeghalmi, A.
  2. Helgert, M.
  3. Brunner, R.
  4. Heyroth, F.
  5. Gösele, U.
  6. Knez, M.
Revista:
Applied Optics

ISSN: 1539-4522,  1559-128X

Any de publicació: 2009

Volum: 48

Número: 9

Pàgines: 1727-1732

Tipus: Article

DOI: 10.1364/AO.48.001727 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus