LENS (lithography enhancement toward nano scale): A European project to support double exposure and double patterning technology development
- Cantu, P.
- Baldi, L.
- Piacentini, P.
- Sytsma, J.
- Le Gratiet, B.
- Gaugiran, S.
- Wong, P.
- Miyashita, H.
- Atzei, L.R.
- Buch, X.
- Verkleij, D.
- Toublan, O.
- Perez-Murano, F.
- Mecerreyes, D.
ISSN: 1996-756X, 0277-786X
ISBN: 9780819480545
Año de publicación: 2010
Volumen: 7640
Tipo: Aportación congreso