Effect of N2 flow rate on the microstructure and electrochemical behavior of TaNx films deposited by modulated pulsed power magnetron sputtering

  1. Mendizabal, L.
  2. Bayón, R.
  3. G-Berasategui, E.
  4. Barriga, J.
  5. Gonzalez, J.J.
Zeitschrift:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Datum der Publikation: 2016

Ausgabe: 610

Seiten: 1-9

Art: Artikel

DOI: 10.1016/J.TSF.2016.04.043 GOOGLE SCHOLAR

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