Electrónica y control de subsistemas rf con aplicaciones en la generación y diagnóstico de haces de partículas

  1. MUGUIRA URTUBI, LEIRE
Dirigida por:
  1. Víctor Etxebarria Ecenarro Director
  2. Joaquin Portilla Rubín Director

Universidad de defensa: Universidad del País Vasco - Euskal Herriko Unibertsitatea

Fecha de defensa: 08 de julio de 2014

Tribunal:
  1. Antonio Tazón Puente Presidente/a
  2. Josu Jugo García Secretario
  3. José Basilio Galván Vocal
  4. Jorge Feuchtwanger Morales Vocal
  5. Nagore Garmendia Llanos Vocal

Tipo: Tesis

Teseo: 117770 DIALNET

Resumen

Los sistemas de RF y control son imprescindibles en los aceleradores de partículas. Su diseño, implementación, monitorización y combinación es clave para un correcto funcionamiento de estas complejas máquinas. Este trabajo trata de estas dos tecnologías clave en los aceleradores, RF y control, aplicadas a diferentes sistemas presentes en aceleradores de partículas, dando lugar a una mejora respecto a las soluciones existentes.Por un lado, este trabajo presenta un nuevo sistema electrónico para sistemas de monitorización del haz (BPM), concebido para ser versátil, abierto y configurable, que pueda ser usado en diferentes tipos de aceleradores, independientemente de la partícula cargada, realizando unas mínimas modificaciones. El sistema presentado constituye en su totalidad una solución integrada todo en uno y serializable para una detección precisa de la posición y de la fase del haz de partículas en aceleradores de iones.Por otro lado, se presenta un sistema automático para optimizar el acoplo de potencia microondas al plasma generado en una fuente ECR de protones/deuterones, basado en un modelo específico de triple-stub tuner y la integración de la electrónica de medida y control. El sistema desarrollado permite conseguir mejoras significativas en la eficiencia de absorción de potencia, encontrando una solución óptima más rápido que manualmente, y funcionando como un sistema adaptativo capaz de responder en pocos pulsos a cambios de la configuración de la fuente de iones manteniendo el acoplo óptimo de potencia.