Floquet engineering of magnetism in topological insulator thin films

  1. Liu, X.
  2. Fan, B.
  3. Hübener, H.
  4. De Giovannini, U.
  5. Duan, W.
  6. Rubio, A.
  7. Tang, P.
Revista:
Electronic Structure

ISSN: 2516-1075

Ano de publicación: 2023

Volume: 5

Número: 2

Tipo: Artigo

DOI: 10.1088/2516-1075/ACCA58 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso aberto editor
Fonte de datos: Scopus