Floquet engineering of magnetism in topological insulator thin films

  1. Liu, X.
  2. Fan, B.
  3. Hübener, H.
  4. De Giovannini, U.
  5. Duan, W.
  6. Rubio, A.
  7. Tang, P.
Revista:
Electronic Structure

ISSN: 2516-1075

Any de publicació: 2023

Volum: 5

Número: 2

Tipus: Article

DOI: 10.1088/2516-1075/ACCA58 GOOGLE SCHOLAR lock_openAccés obert editor
Font de les dades: Scopus