Tailoring the magnetization reversal in antidot nanostructures using lithographically engineered inhomogeneities

  1. Tripathy, D.
  2. Vavassori, P.
  3. Adeyeye, A.O.
Zeitschrift:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Datum der Publikation: 2011

Ausgabe: 109

Nummer: 7

Art: Konferenz-Beitrag

DOI: 10.1063/1.3537948 GOOGLE SCHOLAR