Roomerature, Low-Barrier Boron Doping of Graphene

  1. Pan, L.
  2. Que, Y.
  3. Chen, H.
  4. Wang, D.
  5. Li, J.
  6. Shen, C.
  7. Xiao, W.
  8. Du, S.
  9. Gao, H.
  10. Pantelides, S.T.
Revista:
Nano Letters

ISSN: 1530-6992,  1530-6984

Ano de publicación: 2015

Volume: 15

Número: 10

Páxinas: 6464-6468

Tipo: Artigo

DOI: 10.1021/ACS.NANOLETT.5B01839 GOOGLE SCHOLAR

Obxectivos de Desenvolvemento Sustentable

Fonte de datos: Scopus