LENS (lithography enhancement toward nano scale): A European project to support double exposure and double patterning technology development

  1. Cantu, P.
  2. Baldi, L.
  3. Piacentini, P.
  4. Sytsma, J.
  5. Le Gratiet, B.
  6. Gaugiran, S.
  7. Wong, P.
  8. Miyashita, H.
  9. Atzei, L.R.
  10. Buch, X.
  11. Verkleij, D.
  12. Toublan, O.
  13. Perez-Murano, F.
  14. Mecerreyes, D.
Actes:
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

ISSN: 1996-756X 0277-786X

ISBN: 9780819480545

Any de publicació: 2010

Volum: 7640

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1117/12.846030 GOOGLE SCHOLAR

Objectius de Desenvolupament Sostenible